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產(chǎn)品目錄
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  • 日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備 RIE-10NR
    日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備 RIE-10NR
    RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能、全自動反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),能夠滿足非腐蝕性氣體化學(xué)最苛刻的工藝要求。 計(jì)算機(jī)化觸摸屏為工藝配方編程和存儲提供了用戶友好的界面。該系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精確的側(cè)壁輪廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。憑借其圓滑、緊湊的設(shè)計(jì),RIE-10NR只需要很小的潔凈室空間。
    型號:RIE-10NR
    發(fā)布時(shí)間:2023-08-07
  • 精密電子萬能試驗(yàn)機(jī) – Autograph AGS-X系列
    精密電子萬能試驗(yàn)機(jī) – Autograph AGS-X系列
    島津 AutographAGS-X系列為多種應(yīng)用提供卓越的性能和實(shí)用的試驗(yàn)解決方案。AGS-X系列提供高級控制和直觀的操作,為強(qiáng)度評估設(shè)定了新標(biāo)準(zhǔn),并以現(xiàn)代、時(shí)尚的設(shè)計(jì)提供超高的安全性。
    型號:Autograph AGS-X系列
    發(fā)布時(shí)間:2025-08-23
  • 等離子增強(qiáng)型原子層沉積設(shè)備(ALD)- TFS200
    等離子增強(qiáng)型原子層沉積設(shè)備(ALD)- TFS200
    Beneq TFS 200 專為學(xué)術(shù)和企業(yè)研發(fā)而設(shè)計(jì),是一款用途廣泛的原子層沉積 (ALD) 平臺,可在真正的 ALD 模式下提供卓越的薄膜質(zhì)量。
    型號:TFS200
    發(fā)布時(shí)間:2025-08-23
  • 日本SAMCO ICP-RIE等離子體蝕刻設(shè)備 RIE-800iP
    日本SAMCO ICP-RIE等離子體蝕刻設(shè)備 RIE-800iP
    RIE-800iP是一種高性能ICP(電感耦合等離子體)蝕刻系統(tǒng),它使用高密度等離子體來執(zhí)行光電器件和電子元件所需的化合物半導(dǎo)體或介電膜蝕刻.
    型號:RIE-800iP
    發(fā)布時(shí)間:2024-02-03
  • 日本SAMCO 深硅蝕刻設(shè)備 RIE-400iP
    日本SAMCO 深硅蝕刻設(shè)備 RIE-400iP
    The RIE-400iP是一種高性能電感耦合等離子體(ICP)蝕刻系統(tǒng),它使用高密度等離子體來執(zhí)行光電器件和電子元件所需的化合物半導(dǎo)體蝕刻。
    型號:RIE-400iP
    發(fā)布時(shí)間:2024-02-03
  • 藍(lán)岸探針臺FA系列FA-2000
    藍(lán)岸探針臺FA系列FA-2000
    基于高可靠的閃光燈泵浦激光平臺,F(xiàn)iLaser FA-100 AIO激光系統(tǒng)為OEM客戶提供了緊湊的高能激光系統(tǒng),能夠在1064、532、355和266nm提供~mJ脈沖能量。
    型號:LANANtek FA-2000
    發(fā)布時(shí)間:2023-08-03
  • 藍(lán)岸探針臺SA系列SA-300
    藍(lán)岸探針臺SA系列SA-300
    SA 系列探針臺是一款在非真空條件下實(shí)現(xiàn)高低溫環(huán)境的測試探針臺。該產(chǎn)品采用氣冷制冷,自動控溫,設(shè)備配置非常豐富。自帶屏蔽暗室,一方面可以屏蔽無線電磁干擾,另外一方面也可以保持氮?dú)庹龎涵h(huán)境下樣品在低溫時(shí)無結(jié)霜。該產(chǎn)品多數(shù)用于相關(guān)單位實(shí)驗(yàn)室。產(chǎn)品優(yōu)勢:可搭配高低溫溫控系統(tǒng),溫度范圍為-60-300℃可實(shí)現(xiàn)半自動測試微腔屏蔽
    型號:LANANtek SA-300
    發(fā)布時(shí)間:2023-08-03
  • 藍(lán)岸探針臺M系列M-300
    藍(lán)岸探針臺M系列M-300
    掌握晶圓檢測核心技術(shù)——專注半導(dǎo)體探針測試領(lǐng)域
    型號:LANANtek M-300
    發(fā)布時(shí)間:2023-08-03
  • Oxford RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaPro 80
    Oxford RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaPro 80
    PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng),可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置,便于使用,且能確保工藝性能。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快速晶圓裝卸,是研究和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電極冷卻和出色的襯底溫度控制來實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的工藝。
    型號:PlasmaPro 80 RIE
    發(fā)布時(shí)間:2023-03-01
  • AXIS-TEC激光晶圓劃片機(jī)AX-LS100
    AXIS-TEC激光晶圓劃片機(jī)AX-LS100
    AXISTEC激光晶圓劃片機(jī),采用高精度激光,形成極小的光點(diǎn),因其非接觸式加工,對工件本身無機(jī)械沖壓力,工件不易變形,且熱影響極小,激光壽命長,搭配高精度平移臺,使得劃片精度高,速度快,成本更低。
    型號:AX-LS100
    發(fā)布時(shí)間:2022-06-02
  • 酵母顯微操作儀 MSM400
    酵母顯微操作儀 MSM400
    Singer公司新開發(fā)出來有史以來最強(qiáng)大的酵母顯微操作工具—MSM 400系列,它更直觀,更容易使用,并擁有先進(jìn)的影像和定時(shí)拍攝特點(diǎn),極大地增強(qiáng)了酵母成熟和篩選方案。
    型號:MSM400
    發(fā)布時(shí)間:2022-04-13
  • 高精度光電自準(zhǔn)直儀 AutoMATE5000
    高精度光電自準(zhǔn)直儀 AutoMATE5000
    自準(zhǔn)直儀是一種用于檢測平面反射鏡微小角度變化的光學(xué)測量儀器,從功能上理解,自準(zhǔn)直儀是將準(zhǔn)直儀 (或平行光管)和準(zhǔn)直望遠(yuǎn)鏡結(jié)合為一體的一臺儀器。自準(zhǔn)直儀通常由光源、分劃板、分光鏡、物鏡以及望遠(yuǎn)接收部分構(gòu)成(參見以上示意圖),光學(xué)自準(zhǔn)直儀的望遠(yuǎn)接收部分由分劃板和目鏡組成,通過人眼觀測并結(jié)合機(jī)械測微裝置完成測量,光電自準(zhǔn)直儀的望遠(yuǎn)接收部分則由光電傳感器完成接收和測量。
    型號:AutoMATE5000
    發(fā)布時(shí)間:2022-04-07
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